Главная > Душевые системы > По брендам > Душевой комплект Lemark Mars LM3522C

Душевой комплект Lemark Mars LM3522C

Артикул: 118039
Душевой комплект Lemark Mars LM3522C
Доступно под заказ
  • Производитель:
  • Управление
    рычажное
  • Материал
    латунь
  • Размер верхнего душа, см
    30
  • Размер лейки, см
    10
  • Цвет
    хром
  • Форма
    круглая
(53 голоса)
23 397 руб.
Кол-во:
Купи в кредит

Рассрочка 0-0-3
Доставка
Уточняйте у менеджера
По Москве
1000 Р
По МО
1000 Р + 35 Р/КМ
Душевой комплект Lemark Mars LM3522C обладает эргономичностью, стильным внешним видом и современными функциями, которые делают гигиенические процедуры комфортными. Составляющие комплекта выполнены из латуни с износостойким покрытием, защищающим его от повреждений и гарантирующим долгий срок эксплуатации. Штанга регулируется по высоте. Верхний поворотный душ снабжен режимом «Тропический дождь». Смеситель комплектуется экокартриджем, который позволяет экономично расходовать воду. Управление напором и температурой воды осуществляется удобным рычагом. Встраиваемый наполнитель для ванны укомплектован аэратором, насыщающим воду кислородом и делающим поток объемным и мягким. Ручной душ работает в трех режимах подачи воды.
Управление
рычажное
Материал
латунь
Размер верхнего душа, см
30
Размер лейки, см
10
Количество режимов струи
3
Длина шланга, см
200
Исполнение шланга
металлический
Стандарт подводки
1/2
Механизм
керамический картридж
Область применения
бытовая
Гарантия
4 года
Цвет
хром
Поверхность
глянцевая
Стилистика дизайна
Современный стиль
Форма
круглая
Форма излива
традиционная
Длина излива, см
18
Смеситель
есть
Внутренняя часть в комплекте
есть
Ручной душ
есть
Верхний душ
есть
Излив для наполнения ванн
есть
Девиатор
есть
Защита от перекручивания
нет
Защита от обратного потока
нет
Ограничение температуры
нет
Система против известковых отложений
есть
Функция экономии расхода
нет
Подсветка
нет
Оснащение
душевой шланг, душевая лейка, переключатель потоков, кронштейн для верхнего душа, аэратор
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *.
Подробнее

Находится в разделах

Назад